Zápis tvarovaným elektronovým svazkem

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F08%3A00314356" target="_blank" >RIV/68081731:_____/08:00314356 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Zápis tvarovaným elektronovým svazkem
Popis výsledku v původním jazyce
Článek popisuje úpravu původního elektronového litografu BS 600 pracujícího s urychlovacím napětím 15 kV, který prošel v posledních letech výraznou rekonstrukcí. Základní požadavky jsou kladeny na zlepšení rozlišení a zvýšení expoziční rychlosti. Kromě vlastností a dosažených parametrů jsou uvedeny rovněž příklady struktur vytvořených pomocí tohoto systému. Litograf je využíván pro přípravu masek, přímou litografii i realizaci reliéfních struktur. Pro kontrolu realizovaných struktur byl použit mikroskops rastrující sondou a rastrovací elektronový mikroskop.
Název v anglickém jazyce
Writing System with Shaped Electron Beam
Popis výsledku anglicky
The paper describes an improvement of electron beam lithograph BS 600 working with a fixed accelerating voltage of 15 kV and a rectangular shape variable size electron beam. The system has undertaken an important upgrade during last few years. Main goalwas to increase the resolution and the writing speed. Achieved parameters and characteristics of the system are described as well as few examples of prepared structures.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/GA102%2F05%2F2325" target="_blank" >GA102/05/2325: Elektronová litografie pro přípravu nanostruktur</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)