Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F10%3A00352509" target="_blank" >RIV/68081731:_____/10:00352509 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons
Popis výsledku v původním jazyce
Free-standing films of thicknesses in units of nm have been examined using both reflected and transmitted electrons in the scanning low energy electron microscope.
Název v anglickém jazyce
Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons
Popis výsledku anglicky
Free-standing films of thicknesses in units of nm have been examined using both reflected and transmitted electrons in the scanning low energy electron microscope.

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Proceedings of 5th Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology
ISBN
978-4-9903248-2-7
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Název nakladatele
University of Toyama
Místo vydání
Toyama
Místo konání akce
Toyama
Datum konání akce
12. 9. 2010
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)