SMV-2017-04: Vývoj technologie elektronové litografie

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F17%3A00481793" target="_blank" >RIV/68081731:_____/17:00481793 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

SMV-2017-04: Vývoj technologie elektronové litografie

Popis výsledku v původním jazyce

Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.

Název v anglickém jazyce

SMV-2017-04: Electron beam lithography technology development

Popis výsledku anglicky

Research and development in the field of physical realization of graphic and optical structures based on the principle of diffractive optics by means of electron beam lithography in a recording material supported by a silicon or glass board. The research covers the analysis of the graphical or optical motive, research and application of relief structures implementing the required graphic and optical properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of relief structures, preparation and analysis of technology of implementation of relief structures with regard to the limits of current scientific instruments, verification of theoretical considerations by means of relief structure sample exposure.

Druh

V_souhrn - Souhrnná výzkumná zpráva

CEP obor

—

OECD FORD obor

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Projekt

—

Návaznosti

N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Počet stran výsledku

6

Místo vydání

Brno

Název nakladatele resp. objednatele

OpSec Security Limited

Verze

—