Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů

Popis výsledku

Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách.

Klíčová slova

Binary phase gratingse-beam lithographyreactive ion etchingoptical fiber sensorsdiffraction grating

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách.

  • Název v anglickém jazyce

    Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing

  • Popis výsledku anglicky

    This contribution deals with the fabrication of binary phase masks using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for the manufacturing of optical fiber sensors. The research was focused on the adjusting of gratings depth because of suppression of various undesirable diffraction orders for set grating pitch and its duty cycle. Theoretical simulations were compared with measurement of fabricated gratings.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20201 - Electrical and electronic engineering

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2022

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    LA62. Sborník příspěvků multioborové konference LASER62

  • ISBN

    978-80-87441-30-5

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    43-44

  • Název nakladatele

    Ústav přístrojové techniky AV ČR

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Lednice

  • Datum konání akce

    9. 11. 2022

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku

Druh výsledku

D - Stať ve sborníku

D

OECD FORD

Electrical and electronic engineering

Rok uplatnění

2022