Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F22%3A00567776" target="_blank" >RIV/68081731:_____/22:00567776 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů
Popis výsledku v původním jazyce
Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách.
Název v anglickém jazyce
Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing
Popis výsledku anglicky
This contribution deals with the fabrication of binary phase masks using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for the manufacturing of optical fiber sensors. The research was focused on the adjusting of gratings depth because of suppression of various undesirable diffraction orders for set grating pitch and its duty cycle. Theoretical simulations were compared with measurement of fabricated gratings.

Projekt
<a href="/cs/project/FW01010379" target="_blank" >FW01010379: Nelineární difrakční vláknové prvky pro senzorické systémy</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2022
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)