Příprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F01%3A00024675" target="_blank" >RIV/68378271:_____/01:00024675 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50)
Popis výsledku v původním jazyce
Final report deals with review of solution of this COST project with main conclusions: 1. Magnetron sputtering, ECR PA CVD or low pressure plasma jet systems are suitable for preparation of tribological coatings; 2. All amorphous carbon and also carbon nitride films were elastic, hard, and have a good tribological properties.Application of RF bias -100 V improves a lot these properties
Název v anglickém jazyce
Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50)
Popis výsledku anglicky
Final report deals with review of solution of this COST project with main conclusions: 1. Magnetron sputtering, ECR PA CVD or low pressure plasma jet systems are suitable for preparation of tribological coatings; 2. All amorphous carbon and also carbon nitride films were elastic, hard, and have a good tribological properties.Application of RF bias -100 V improves a lot these properties
Klasifikace
Druh
V<sub>x</sub> - Nezařazeno - Výzkumná zpráva obsahující utajované informace (takový výsledek lze do RIV vložit pouze v případě, že zpráva obsahuje utajované informace a pole R12 = U), nebo souhrnná výzkumná zpráva
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/OC%20516.50" target="_blank" >OC 516.50: Příprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Počet stran výsledku
4
Místo vydání
Luxembourg
Název nakladatele resp. objednatele
—
Verze
—