Structural properties of hot wire a-Si:H films deposited at rates in excess of 100 A/s.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F01%3A02010409" target="_blank" >RIV/68378271:_____/01:02010409 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structural properties of hot wire a-Si:H films deposited at rates in excess of 100 A/s.

Popis výsledku v původním jazyce

The structure ofa-Si:H, deposited at rates in excess of 100 A/s by the hot wire chemical vapor deposition technique, has been examined by x-ray diffraction, raman spectroscopy, H evolution, and small-angle x-ray scattering.

Název v anglickém jazyce

Structural properties of hot wire a-Si:H films deposited at rates in excess of 100 A/s.

Popis výsledku anglicky

The structure ofa-Si:H, deposited at rates in excess of 100 A/s by the hot wire chemical vapor deposition technique, has been examined by x-ray diffraction, raman spectroscopy, H evolution, and small-angle x-ray scattering.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2001

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Applied Physics

ISSN

0021-8979

e-ISSN

—

Svazek periodika

90

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

5038-5047

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—