Experimental aspects of metal particle diffusion on a silicon surface.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F01%3A02010459" target="_blank" >RIV/68378271:_____/01:02010459 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Experimental aspects of metal particle diffusion on a silicon surface.

Popis výsledku v původním jazyce

Paer presents several aspects of the equilibrium state in metal-semiconductor system. Low coverage of Au, Cu and Pb atoms on Si(111)-7x7 surface were studied with STM. Dynamics of adsorbates contradicts the prediction of classical diffusion theories.

Název v anglickém jazyce

Experimental aspects of metal particle diffusion on a silicon surface.

Popis výsledku anglicky

Paer presents several aspects of the equilibrium state in metal-semiconductor system. Low coverage of Au, Cu and Pb atoms on Si(111)-7x7 surface were studied with STM. Dynamics of adsorbates contradicts the prediction of classical diffusion theories.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/IAA1010718" target="_blank" >IAA1010718: Povrchová difúze interagujících adsorbovaných atomů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2001

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Collective diffusion on surfaces: correlation effects and adatom interactions.

ISBN

0-7923-7115-1

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

12

Strana od-do

11-22

Název nakladatele

Kluwer Academic publishers

Místo vydání

Dordrecht

Místo konání akce

Praha [CZ]

Datum konání akce

1. 10. 2000

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—