Elastic electron backscattering from silicon surfaces: effect of surface roughness.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F02%3A02020165" target="_blank" >RIV/68378271:_____/02:02020165 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Elastic electron backscattering from silicon surfaces: effect of surface roughness.
Popis výsledku v původním jazyce
In the present work, systematic study has been carried out on the influence of surface roughness on the electron IMFPs determined by the EPES method using a Cu standard.
Název v anglickém jazyce
Elastic electron backscattering from silicon surfaces: effect of surface roughness.
Popis výsledku anglicky
In the present work, systematic study has been carried out on the influence of surface roughness on the electron IMFPs determined by the EPES method using a Cu standard.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2002
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surface and Interface Analysis
ISSN
0142-2421
e-ISSN
—
Svazek periodika
34
Číslo periodika v rámci svazku
N/A
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
215-219
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—