Influence of the additional RF discharge on the properties of carbon nitride thin films deposited by PLD.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F02%3A02020356" target="_blank" >RIV/68378271:_____/02:02020356 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Influence of the additional RF discharge on the properties of carbon nitride thin films deposited by PLD.

Popis výsledku v původním jazyce

Nitrogen-rich carbon nitride films were prepared by pulsed laser deposition combined with additional r.f. and hollow cathode discharge on fused silica, stainless steel and silicon substrates.

Název v anglickém jazyce

Influence of the additional RF discharge on the properties of carbon nitride thin films deposited by PLD.

Popis výsledku anglicky

Nitrogen-rich carbon nitride films were prepared by pulsed laser deposition combined with additional r.f. and hollow cathode discharge on fused silica, stainless steel and silicon substrates.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Advanced Laser Technologies.

ISBN

0-8194-4528-2

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

118-124

Název nakladatele

SPIE - International Society for Optical Engineering

Místo vydání

Bellingham

Místo konání akce

Constanta [RO]

Datum konání akce

11. 9. 2001

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—