Atmospheric Barrier-Torch Discharge Applied on tke Low Temperature Deposition.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F02%3A02020378" target="_blank" >RIV/68378271:_____/02:02020378 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Atmospheric Barrier-Torch Discharge Applied on tke Low Temperature Deposition.

Popis výsledku v původním jazyce

The barier-torch discharge was used for a low temperature deposition of In x O y and SnO x thin films at atmospheric pressure on polymer SiO 2 and Si substrates as well. Valpours of Sn- and In- acetylacetonat were used as growth precursors for the deposition process of SnO x and In x O y films respectvely.

Název v anglickém jazyce

Atmospheric Barrier-Torch Discharge Applied on tke Low Temperature Deposition.

Popis výsledku anglicky

The barier-torch discharge was used for a low temperature deposition of In x O y and SnO x thin films at atmospheric pressure on polymer SiO 2 and Si substrates as well. Valpours of Sn- and In- acetylacetonat were used as growth precursors for the deposition process of SnO x and In x O y films respectvely.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Svazek periodika

11-12

Číslo periodika v rámci svazku

N/A

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

381-386

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—