Měření nanometrických deformací tenkých Nb vrstev za přítomnosti silného elektrického pole s pomocí rentgenové interferometrie

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025706" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00025706 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry
Popis výsledku v původním jazyce
We present measurements of in situ nanometric-resolution topographical modifications of thin niobium layers subjected to strong electric fields. The Nb layers, deposited on a fused silica substrate, are interferometrically flash probed using soft x-ray laser XRL at the wavelength of 21.2 nm.
Název v anglickém jazyce
Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry
Popis výsledku anglicky
We present measurements of in situ nanometric-resolution topographical modifications of thin niobium layers subjected to strong electric fields. The Nb layers, deposited on a fused silica substrate, are interferometrically flash probed using soft x-ray laser XRL at the wavelength of 21.2 nm.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)