Ablace PMMA indukovaná nano-, piko- a femtosekundovými impulzy XUV laserů
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025721" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00025721 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/00216208:11320/05:00005501
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
XUV-laser induced ablation of PMMA with nano-, pico-, and femtosecond pulses
Popis výsledku v původním jazyce
For conventional wavelength (UV-vis-IR) lasers delivering radiation energy to the surface of materials, ablation thresholds, etch (ablation) rates, and the quality of ablated structures often differ dramatically between short (typically nanosecond) and ultrashort (typically femtosecond) pulses. Various very short-wavelength (?<100 nm) lasers, emitting pulses with durations ranging from ~ 10 fs to ~1 ns, have recently been placed into routine operation, this has facilitated the investigation of how ablation characteristics depend on the pulse duration in the XUV spectral region
Název v anglickém jazyce
XUV-laser induced ablation of PMMA with nano-, pico-, and femtosecond pulses
Popis výsledku anglicky
For conventional wavelength (UV-vis-IR) lasers delivering radiation energy to the surface of materials, ablation thresholds, etch (ablation) rates, and the quality of ablated structures often differ dramatically between short (typically nanosecond) and ultrashort (typically femtosecond) pulses. Various very short-wavelength (?<100 nm) lasers, emitting pulses with durations ranging from ~ 10 fs to ~1 ns, have recently been placed into routine operation, this has facilitated the investigation of how ablation characteristics depend on the pulse duration in the XUV spectral region
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena
ISSN
0368-2048
e-ISSN
—
Svazek periodika
144-147
Číslo periodika v rámci svazku
-
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
929-932
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—