Boron-nitridové tenké vrstvy připravené KrF excimerovým laserem

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F06%3A00041248" target="_blank" >RIV/68378271:_____/06:00041248 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Boron nitride thin layers prepared using a krypton fluoride laser
Popis výsledku v původním jazyce
Boron nitride thin layers were fabricated by the pulsed laser deposition technique using a KrF excimer laser. In order to improve stoichiometry, a radio frequency discharge generator was additionally applied. Increase of the substrate temperature from 20to 700 degrees caused an increase of content of crystalline sp2-bonded phases and changes in the surface morphology. The deposition of a BN coating at 700dg. C produced a layer with a nano-composite microstructure, consisting of nano-crystaline w-BN particles embedded in a t-BN and h-BN matrix.
Název v anglickém jazyce
Boron nitride thin layers prepared using a krypton fluoride laser
Popis výsledku anglicky
Boron nitride thin layers were fabricated by the pulsed laser deposition technique using a KrF excimer laser. In order to improve stoichiometry, a radio frequency discharge generator was additionally applied. Increase of the substrate temperature from 20to 700 degrees caused an increase of content of crystalline sp2-bonded phases and changes in the surface morphology. The deposition of a BN coating at 700dg. C produced a layer with a nano-composite microstructure, consisting of nano-crystaline w-BN particles embedded in a t-BN and h-BN matrix.

Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)