Krystalinita tenké vrstvy křemíku určená Ramanovou spektroskopií

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00309897" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00309897 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00216208:11320/08:00206082 RIV/68378271:_____/08:00341950

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Crystallinity of the mixed phase silicon thin films by Raman spectroscopy

Popis výsledku v původním jazyce

Raman spectra of the mixed phase silicon films were studied. The 785 nm excitation was found optimal for crystallinity evaluation.

Název v anglickém jazyce

Crystallinity of the mixed phase silicon thin films by Raman spectroscopy

Popis výsledku anglicky

Raman spectra of the mixed phase silicon films were studied. The 785 nm excitation was found optimal for crystallinity evaluation.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2008

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN

0022-3093

e-ISSN

—

Svazek periodika

354

Číslo periodika v rámci svazku

19-25

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000256500400042

EID výsledku v databázi Scopus

—