Characterization of the focused beam from a 10-Hz desktop capillary-discharge 46.9-nm laser
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F09%3A00335795" target="_blank" >RIV/68378271:_____/09:00335795 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68081731:_____/09:00335795
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Characterization of the focused beam from a 10-Hz desktop capillary-discharge 46.9-nm laser
Popis výsledku v původním jazyce
The desktop size capillary-discharge Ne-like Ar laser (CDL) providing 10-?J nanosecond pulses of coherent 46.9-nm radiation with a repetition rate up to 12 Hz was developed and built at the Colorado State University in Fort Collins and then installed inPrague. The beam of the laser was focused by a spherical mirror covered with Si/Sc multilayer coating onto the surface of poly(methyl methacrylate) - PMMA. Interaction parameters vary by changing the distance between sample surface and beam focus. The samples were exposed to various numbers of shots. Analysis of damaged PMMA by atomic force (AFM) and Nomarski (DIC ? differential interference contrast) microscopes allows not only to determine the key characteristics of the focused beam (e.g. Rayleigh?s parameter, focal spot diameter, tight focus position, etc.) but also to investigate mechanisms of the radiation-induced erosion processes.
Název v anglickém jazyce
Characterization of the focused beam from a 10-Hz desktop capillary-discharge 46.9-nm laser
Popis výsledku anglicky
The desktop size capillary-discharge Ne-like Ar laser (CDL) providing 10-?J nanosecond pulses of coherent 46.9-nm radiation with a repetition rate up to 12 Hz was developed and built at the Colorado State University in Fort Collins and then installed inPrague. The beam of the laser was focused by a spherical mirror covered with Si/Sc multilayer coating onto the surface of poly(methyl methacrylate) - PMMA. Interaction parameters vary by changing the distance between sample surface and beam focus. The samples were exposed to various numbers of shots. Analysis of damaged PMMA by atomic force (AFM) and Nomarski (DIC ? differential interference contrast) microscopes allows not only to determine the key characteristics of the focused beam (e.g. Rayleigh?s parameter, focal spot diameter, tight focus position, etc.) but also to investigate mechanisms of the radiation-induced erosion processes.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II
ISBN
9780819476357
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
—
Název nakladatele
SPIE
Místo vydání
Bellingham
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
21. 4. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—