Sub-micron focusing of soft x-ray free electron laser beam
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F09%3A00336002" target="_blank" >RIV/68378271:_____/09:00336002 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Sub-micron focusing of soft x-ray free electron laser beam
Popis výsledku v původním jazyce
A multilayer-coated 27-cm focal length parabola, optimized to reflect 13.5 nm wavelength at normal incidence, was used in multiple FLASH experiments and focused the beam to a sub-micron beam size. The intensity of the beam was measured indirectly from the depths of craters left by the FLASH beam on PMMA-coated substrates. Comparing simulated and experimental shapes of the craters we found the best match for a wavefront error of 0.45 nm, or ?/30. We further estimated that the FWHM of the focal spot was 350 nm and that the intensity in the focus was 1018 W/cm2. The sub-micron FLASH beam provided extreme intensity conditions essential for warm dense matter experiments. The same optic was used in multiple experiments and survived the beam. However, after the first measurements, which took place over several days, the optical surface was contaminated. This contamination reduced the mirror reflectivity, which was partially recovered by oxygen plasma cleaning.
Název v anglickém jazyce
Sub-micron focusing of soft x-ray free electron laser beam
Popis výsledku anglicky
A multilayer-coated 27-cm focal length parabola, optimized to reflect 13.5 nm wavelength at normal incidence, was used in multiple FLASH experiments and focused the beam to a sub-micron beam size. The intensity of the beam was measured indirectly from the depths of craters left by the FLASH beam on PMMA-coated substrates. Comparing simulated and experimental shapes of the craters we found the best match for a wavefront error of 0.45 nm, or ?/30. We further estimated that the FWHM of the focal spot was 350 nm and that the intensity in the focus was 1018 W/cm2. The sub-micron FLASH beam provided extreme intensity conditions essential for warm dense matter experiments. The same optic was used in multiple experiments and survived the beam. However, after the first measurements, which took place over several days, the optical surface was contaminated. This contamination reduced the mirror reflectivity, which was partially recovered by oxygen plasma cleaning.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II
ISBN
9780819476357
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
—
Název nakladatele
SPIE
Místo vydání
Bellingham
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
21. 4. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—