Selective area deposition of diamond structures

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F09%3A00339576" target="_blank" >RIV/68378271:_____/09:00339576 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68407700:21340/09:00163894

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Selective area deposition of diamond structures

Popis výsledku v původním jazyce

The report is about selective area deposition of diamond structures after the reactive ion etching and using a photo-resist as mask.

Název v anglickém jazyce

Selective area deposition of diamond structures

Popis výsledku anglicky

The report is about selective area deposition of diamond structures after the reactive ion etching and using a photo-resist as mask.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of the 15th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter

ISBN

978-80-554-0057-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Název nakladatele

University of Zilina

Místo vydání

Zilina

Místo konání akce

Bystrá, Liptovský Ján

Datum konání akce

24. 6. 2009

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—