Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

In-situ monitoring of the growth of nanostructured aluminum thin film

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F11%3A00361263" target="_blank" >RIV/68378271:_____/11:00361263 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1117/1.3543816" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1117/1.3543816</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1117/1.3543816" target="_blank" >10.1117/1.3543816</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    In-situ monitoring of the growth of nanostructured aluminum thin film

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In order to control the nanostructure of aluminum thin films fabricated by RF magnetron sputtering, we made use of in-situ monitoring of electrical and optical properties of the growing layer as well as plasma characterization by mass and optical emission spectroscopy. The electrical conductivity and I-V characteristics were measured. The optical constants were obtained from optical monitoring based on spectral ellipsometry. The relevant models (based on one or two Lorentz oscillators and B-spline functions) were suggested to evaluate the data obtained from themonitoring techniques. The results of the in-situ monitoring were correlated with scanning electron microscope analyses. The nanostructure was effectively manipulated by RF power variation. Optical functions exhibiting plasmonic behavior in the UV range and a strong nonlinear character of I-V curves were obtained for an ultrathin Al film deposited at a lower growth rate.

  • Název v anglickém jazyce

    In-situ monitoring of the growth of nanostructured aluminum thin film

  • Popis výsledku anglicky

    In order to control the nanostructure of aluminum thin films fabricated by RF magnetron sputtering, we made use of in-situ monitoring of electrical and optical properties of the growing layer as well as plasma characterization by mass and optical emission spectroscopy. The electrical conductivity and I-V characteristics were measured. The optical constants were obtained from optical monitoring based on spectral ellipsometry. The relevant models (based on one or two Lorentz oscillators and B-spline functions) were suggested to evaluate the data obtained from themonitoring techniques. The results of the in-situ monitoring were correlated with scanning electron microscope analyses. The nanostructure was effectively manipulated by RF power variation. Optical functions exhibiting plasmonic behavior in the UV range and a strong nonlinear character of I-V curves were obtained for an ultrathin Al film deposited at a lower growth rate.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Nanophotonics

  • ISSN

    1934-2608

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    5

  • Číslo periodika v rámci svazku

    5

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000289550100001

  • EID výsledku v databázi Scopus