Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Linear antenna microwave plasma CVD diamond deposition at the edge of no-growth region of C-H-O ternary diagram

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F12%3A00389192" target="_blank" >RIV/68378271:_____/12:00389192 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68407700:21340/12:00200654

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssb.201200124" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/pssb.201200124</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssb.201200124" target="_blank" >10.1002/pssb.201200124</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Linear antenna microwave plasma CVD diamond deposition at the edge of no-growth region of C-H-O ternary diagram

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The process parametric window for diamond deposition using the chemical vapor deposition at low pressures is quite limited where addition of oxygen in the gas phase broadens this window. The lower boundary of the lens-shaped domain in C-H-O ternary diagram concurs with the H2-CO tie-line (C/(C+O)=0.5). In this work, we present the set of experiments where the ratio of C/(C+O) was kept at a constant value 0.385. The effect of hydrogen concentration (ratio O/(O+H) varied from 0.047 to 0.364) on plasma characteristics and deposited NCD films were investigated. Raman spectroscopy confirmed the diamond character of all deposited coatings while scanning electron microscopy showed transformation from not closed to continuous film and further decrease of grainsize and finally growth of diamond nanowires while decreasing hydrogen concentration in a gas mixture.

  • Název v anglickém jazyce

    Linear antenna microwave plasma CVD diamond deposition at the edge of no-growth region of C-H-O ternary diagram

  • Popis výsledku anglicky

    The process parametric window for diamond deposition using the chemical vapor deposition at low pressures is quite limited where addition of oxygen in the gas phase broadens this window. The lower boundary of the lens-shaped domain in C-H-O ternary diagram concurs with the H2-CO tie-line (C/(C+O)=0.5). In this work, we present the set of experiments where the ratio of C/(C+O) was kept at a constant value 0.385. The effect of hydrogen concentration (ratio O/(O+H) varied from 0.047 to 0.364) on plasma characteristics and deposited NCD films were investigated. Raman spectroscopy confirmed the diamond character of all deposited coatings while scanning electron microscopy showed transformation from not closed to continuous film and further decrease of grainsize and finally growth of diamond nanowires while decreasing hydrogen concentration in a gas mixture.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Physica Status Solidi B-Basic Solid State Physics

  • ISSN

    0370-1972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    249

  • Číslo periodika v rámci svazku

    12

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    2612-2615

  • Kód UT WoS článku

    000312215300074

  • EID výsledku v databázi Scopus