Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00427270" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00427270 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61989592:15310/14:33149241
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému
Popis výsledku v původním jazyce
V článku je popsána vícesvazková plazmová aparatura se čtyřmi nezávislými tryskami pracujícími na principu výboje generovaného surfatronem. Tento unikátní systém byl následně optimalizován pro depozice metodou plazmochemického napařování a použit pro přípravu ZnO tenkých vrstev a ZnO vrstev dopovaných hliníkem či manganem. Pomocí Langmuirovy sondy byly studovány časově rozlišené vlastnosti nízkotlakého plazmového svazku pracujícího v pulzním módu za účelem zjištění hustoty plazmatu a elektronové teplotyv aktivní části plazmového kanálu. Následně byla připravena sada ZnO vzorků o tloušťce 300 nm, které byly analyzovány pomocí rentgenové difrakce, elektronové mikroskopie, povrchové profilometrie, UV světelné amperometrie, optické elipsometrie a dalšíchmetod. Všechny zkoumané vzorky byly krystalické, vykazovaly vodivost typu N s šířkou zakázaného pásu 3.5 eV a byly fotoelektrochemicky aktivní.
Název v anglickém jazyce
ZnO thin films prepared by multi SWD plasma jet system
Popis výsledku anglicky
In this paper we deal with multi plasma jet system with 4 independent nozzles working on the principle of surfatron generated discharge. Developed system was optimized for plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of ZnO thin films and ZnO filmsdoped by aluminum and manganese. Time-resolved measurement of plasma parameters of low pressure deposition process in pulse mode was performed in order to estimate plasma density and electron temperature in the active part of plasma channel. Consequentlythe set of ZnO thin films with thickness 300 nm was prepared and analyzed by XRD, SEM, EDX, surface profilometry, UV-light amperometry and optical ellipsometry. All samples under study were crystalline in nature, revealed N-type conductivity with band gap 3.5 eV and were photo-electrochemicaly active.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Jemná mechanika a optika
ISSN
0447-6441
e-ISSN
—
Svazek periodika
59
Číslo periodika v rámci svazku
2
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
38-42
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—