Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Atomic layer deposition for coating of high aspect ratio TiO2 nanotube layers

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F16%3A00464609" target="_blank" >RIV/68378271:_____/16:00464609 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/00216275:25310/16:39901702

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1021/acs.langmuir.6b03119" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1021/acs.langmuir.6b03119</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1021/acs.langmuir.6b03119" target="_blank" >10.1021/acs.langmuir.6b03119</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Atomic layer deposition for coating of high aspect ratio TiO2 nanotube layers

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We present an optimized approach for the deposition of Al2O3 (as a model secondary material) coating into high aspect ratio (180) anodic TiO2 nanotube layers using the atomic layer deposition (ALD) process. In order to study the influence of the diffusion of the Al2O3 precursors on the resulting coating thickness, ALD processes with different exposure times (i.e., 0.5, 2, 5, and 10 s) of the trimethylaluminum (TMA) precursor were performed.n

  • Název v anglickém jazyce

    Atomic layer deposition for coating of high aspect ratio TiO2 nanotube layers

  • Popis výsledku anglicky

    We present an optimized approach for the deposition of Al2O3 (as a model secondary material) coating into high aspect ratio (180) anodic TiO2 nanotube layers using the atomic layer deposition (ALD) process. In order to study the influence of the diffusion of the Al2O3 precursors on the resulting coating thickness, ALD processes with different exposure times (i.e., 0.5, 2, 5, and 10 s) of the trimethylaluminum (TMA) precursor were performed.n

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2016

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Langmuir

  • ISSN

    0743-7463

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    32

  • Číslo periodika v rámci svazku

    41

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    10551-10558

  • Kód UT WoS článku

    000385907900014

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-84991780662