Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

On production and asymmetric focusing of flat electron beams using rectangular capillary discharge plasmas

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00501015" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00501015 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5009118" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.5009118</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5009118" target="_blank" >10.1063/1.5009118</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    On production and asymmetric focusing of flat electron beams using rectangular capillary discharge plasmas

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A method for the asymmetric focusing of electron bunches, based on the active plasma lensing technique, is proposed. This method takes advantage of the strong inhomogeneous magnetic field generated inside the capillary discharge plasma to focus on the ultrarelativistic electrons. The plasma and magnetic field parameters inside the capillary discharge are described theoretically and modeled with dissipative magnetohydrodynamic computer simulations enabling analysis of the capillaries of rectangle cross-sections. Large aspect ratio rectangular capillaries might be used to transport electron beams with high emittance asymmetries, as well as assist in forming spatially flat electron bunches for final focusing before the interaction point.

  • Název v anglickém jazyce

    On production and asymmetric focusing of flat electron beams using rectangular capillary discharge plasmas

  • Popis výsledku anglicky

    A method for the asymmetric focusing of electron bunches, based on the active plasma lensing technique, is proposed. This method takes advantage of the strong inhomogeneous magnetic field generated inside the capillary discharge plasma to focus on the ultrarelativistic electrons. The plasma and magnetic field parameters inside the capillary discharge are described theoretically and modeled with dissipative magnetohydrodynamic computer simulations enabling analysis of the capillaries of rectangle cross-sections. Large aspect ratio rectangular capillaries might be used to transport electron beams with high emittance asymmetries, as well as assist in forming spatially flat electron bunches for final focusing before the interaction point.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Physics of Plasmas

  • ISSN

    1070-664X

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    24

  • Číslo periodika v rámci svazku

    12

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    11

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000418957200073

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85040123688