Multi-layer reflective diffraction grating and use thereof

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F19%3A00537778" target="_blank" >RIV/68378271:_____/19:00537778 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/052991411/publication/EP3076208B1?q=EP3076208B1" target="_blank" >https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/052991411/publication/EP3076208B1?q=EP3076208B1</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Multi-layer reflective diffraction grating and use thereof
Popis výsledku v původním jazyce
The present invention provides a multi-layer dielectric/silicon (MLDS) reflective diffraction grating, comprising, in the following order: - a substrate, - at least one bi-layer Si / transparent dielectric material with a lower refractive index than Si, - optionally at least one bi-layer of first dielectric layer / second dielectric layer, wherein the first dielectric layer has a refractive index higher than the second dielectric layer, - a corrugated layer. The MLDS grating of the invention is suitable for in optical devices (e.g., lasers, spectrometers) using radiation wavelengths greater than 750 nm.nn
Název v anglickém jazyce
Multi-layer reflective diffraction grating and use thereof
Popis výsledku anglicky
The present invention provides a multi-layer dielectric/silicon (MLDS) reflective diffraction grating, comprising, in the following order: - a substrate, - at least one bi-layer Si / transparent dielectric material with a lower refractive index than Si, - optionally at least one bi-layer of first dielectric layer / second dielectric layer, wherein the first dielectric layer has a refractive index higher than the second dielectric layer, - a corrugated layer. The MLDS grating of the invention is suitable for in optical devices (e.g., lasers, spectrometers) using radiation wavelengths greater than 750 nm.nn

Projekt
<a href="/cs/project/LQ1606" target="_blank" >LQ1606: ELI Beamlines: Mezinárodní centrum Excelemce</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru
EP3076208
Vydavatel
EPO_1 -
Název vydavatele
European Patent Office
Místo vydání
Munich, The Hague, Berlin, Vienna, Brussels
Stát vydání
—
Datum přijetí
12. 6. 2019
Název vlastníka
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Podobné výsledky(10)