RF and DC plasma assisted laser deposition of a-CN x thin films.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F99%3A02990464" target="_blank" >RIV/68378271:_____/99:02990464 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
RF and DC plasma assisted laser deposition of a-CN x thin films.
Popis výsledku v původním jazyce
Original scientific paper dealing with RF and DC plasma assisted laser deposition of a-CN x thin films.
Název v anglickém jazyce
RF and DC plasma assisted laser deposition of a-CN x thin films.
Popis výsledku anglicky
Original scientific paper dealing with RF and DC plasma assisted laser deposition of a-CN x thin films.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F93%2F0464" target="_blank" >GA202/93/0464: Studium procesu laserové depozice tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
1999
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Tenth International School on Quantum Electronics: Laser Physics and Applications.
ISBN
—
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Název nakladatele
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Místo vydání
Bellingham
Místo konání akce
—
Datum konání akce
—
Typ akce podle státní příslušnosti
—
Kód UT WoS článku
—