Study and preparation of Cr2O3 layers, as a protection of metal substrates against corrosion
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21220%2F03%3A00094707" target="_blank" >RIV/68407700:21220/03:00094707 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Study and preparation of Cr2O3 layers, as a protection of metal substrates against corrosion
Popis výsledku v původním jazyce
Different metals, used in chemical, nuclear so as in the thermal plants (and so in other industry) are frequently exposed to corrosive ambient. To prevent such materials against chemical corrosion we need some methods of surface protection. All range ofthis particular requirements fulfils only specific type of layers, especially layers of Cr, Zr, Va, or their combinations. From Cr - based layers we can pick out Cr2O3, CrN carbonitrides Cr-N-C or chromium nitrides. Chemical methods of layer preparationare more and more often used for industrial applications so as PVD (Physical Vapour Deposition) method. From chemical methods it is especially CVD (Chemical Vapour Deposition) method. Assisted CVD), temp. range ~ 350°C.
Název v anglickém jazyce
Study and preparation of Cr2O3 layers, as a protection of metal substrates against corrosion
Popis výsledku anglicky
Different metals, used in chemical, nuclear so as in the thermal plants (and so in other industry) are frequently exposed to corrosive ambient. To prevent such materials against chemical corrosion we need some methods of surface protection. All range ofthis particular requirements fulfils only specific type of layers, especially layers of Cr, Zr, Va, or their combinations. From Cr - based layers we can pick out Cr2O3, CrN carbonitrides Cr-N-C or chromium nitrides. Chemical methods of layer preparationare more and more often used for industrial applications so as PVD (Physical Vapour Deposition) method. From chemical methods it is especially CVD (Chemical Vapour Deposition) method. Assisted CVD), temp. range ~ 350°C.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
V - Vyzkumna aktivita podporovana z jinych verejnych zdroju
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of Workshop 2003
ISBN
80-01-02708-2
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
—
Název nakladatele
ČVUT
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
10. 2. 2003
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—