Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Contact-less Measurement Method of Minor Carrier Lifetime in Si Monocrystal

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21220%2F25%3A00384772" target="_blank" >RIV/68407700:21220/25:00384772 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/68407700:21230/25:00384772

  • Výsledek na webu

    <a href="https://technology.fel.cvut.cz/en/isps/" target="_blank" >https://technology.fel.cvut.cz/en/isps/</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/ISPS65707.2025.11189963" target="_blank" >10.1109/ISPS65707.2025.11189963</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Contact-less Measurement Method of Minor Carrier Lifetime in Si Monocrystal

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Several methods for estimating carrier lifetime in silicon bulk or monocrystalline silicon have been known for more than seventy years. However, most of these methods rely on direct galvanic contact with the measured samples. This requirement assumes perfect sample preparation and can sometimes negatively affect the measurement itself. Surface properties and their treatment are crucial for accurate and reproducible results. This article proposes a new method in which direct contact between the measuring circuit and the sample is avoided.

  • Název v anglickém jazyce

    Contact-less Measurement Method of Minor Carrier Lifetime in Si Monocrystal

  • Popis výsledku anglicky

    Several methods for estimating carrier lifetime in silicon bulk or monocrystalline silicon have been known for more than seventy years. However, most of these methods rely on direct galvanic contact with the measured samples. This requirement assumes perfect sample preparation and can sometimes negatively affect the measurement itself. Surface properties and their treatment are crucial for accurate and reproducible results. This article proposes a new method in which direct contact between the measuring circuit and the sample is avoided.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20201 - Electrical and electronic engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2025

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    ISPS'25 PROCEEDINGS

  • ISBN

    979-8-3315-5732-4

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    180-187

  • Název nakladatele

    Czech Technical University in Prague, Faculty of Electrical Engineering

  • Místo vydání

    Prague

  • Místo konání akce

    Praha

  • Datum konání akce

    27. 8. 2025

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku