The Relationship Between the Parameters of Vacuum Evaporation Process
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F18%3A00327509" target="_blank" >RIV/68407700:21230/18:00327509 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8443684" target="_blank" >https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8443684</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1109/ISSE.2018.8443684" target="_blank" >10.1109/ISSE.2018.8443684</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
The Relationship Between the Parameters of Vacuum Evaporation Process
Popis výsledku v původním jazyce
The work focuses on the problematic of thin layers prepared by the method of vacuum evaporation. The relationship between properties of deposited aluminium thin film layer and settings of starting parameters of deposition process was analysed. The theoretically calculated thickness of layers was compared with measured values of thickness. Influence of oxide layer that grows on surface aluminium layer was discussed too.
Název v anglickém jazyce
The Relationship Between the Parameters of Vacuum Evaporation Process
Popis výsledku anglicky
The work focuses on the problematic of thin layers prepared by the method of vacuum evaporation. The relationship between properties of deposited aluminium thin film layer and settings of starting parameters of deposition process was analysed. The theoretically calculated thickness of layers was compared with measured values of thickness. Influence of oxide layer that grows on surface aluminium layer was discussed too.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
20201 - Electrical and electronic engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2018
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
2018 41st International Spring Seminar on Electronics Technology (ISSE)
ISBN
978-3-319-73847-5
ISSN
2161-2536
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
—
Název nakladatele
IEEE
Místo vydání
NEW YORK, NY
Místo konání akce
Zlatibor, Serbia
Datum konání akce
16. 5. 2018
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000449866600058