New method for Si-wafer resistivity determination
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F21%3A00350991" target="_blank" >RIV/68407700:21230/21:00350991 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://technology.fel.cvut.cz/wp-content/uploads/2021/10/21.pdf" target="_blank" >https://technology.fel.cvut.cz/wp-content/uploads/2021/10/21.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.14311/ISPS.2021.021" target="_blank" >10.14311/ISPS.2021.021</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
New method for Si-wafer resistivity determination
Popis výsledku v původním jazyce
Wafer resistivity is one of the most important parameters in production of Power Semiconductor Devices (PSD). This parameter is mainly responsible for achieving required breakdown voltage and other electric parameters. Proposal article describes principles and details of newly designed resonant method and new equipment according patent [1] and compares it with commonly known 4point method. This new method is based on resonant measurement of capacity and following calculation. New method exhibits comparable accuracy with 4point method and brings additional advantages.
Název v anglickém jazyce
New method for Si-wafer resistivity determination
Popis výsledku anglicky
Wafer resistivity is one of the most important parameters in production of Power Semiconductor Devices (PSD). This parameter is mainly responsible for achieving required breakdown voltage and other electric parameters. Proposal article describes principles and details of newly designed resonant method and new equipment according patent [1] and compares it with commonly known 4point method. This new method is based on resonant measurement of capacity and following calculation. New method exhibits comparable accuracy with 4point method and brings additional advantages.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
20201 - Electrical and electronic engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
ISPS'21 PROCEEDINGS
ISBN
978-80-01-06874-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
135-140
Název nakladatele
České vysoké učení technické v Praze
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
26. 8. 2021
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—