High Precision Matrix Laser Lithography for Fabrication of Novel Types of Optical Security Elements

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F11%3A00191048" target="_blank" >RIV/68407700:21340/11:00191048 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
High Precision Matrix Laser Lithography for Fabrication of Novel Types of Optical Security Elements
Popis výsledku v původním jazyce
Laser matrix lithography device is presented which can be used for fabrication of various diffractive structures including novel types of optical security elements. New ideas in encryptionof information using diffractive elements are presented.
Název v anglickém jazyce
High Precision Matrix Laser Lithography for Fabrication of Novel Types of Optical Security Elements
Popis výsledku anglicky
Laser matrix lithography device is presented which can be used for fabrication of various diffractive structures including novel types of optical security elements. New ideas in encryptionof information using diffractive elements are presented.

Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Proceedings of the OSA's 95th Annual Meeting, Frontiers in Optics (FiO) 2011 Conference
ISBN
978-1-55752-917-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
"FTuM2"
Název nakladatele
Optical Society of America
Místo vydání
Washington, DC
Místo konání akce
San Jose
Datum konání akce
16. 10. 2011
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)