The effect of scratching direction in AFM nanolithography

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F70883521%3A28140%2F17%3A63517540" target="_blank" >RIV/70883521:28140/17:63517540 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1109/ICIST.2017.7926779" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1109/ICIST.2017.7926779</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1109/ICIST.2017.7926779" target="_blank" >10.1109/ICIST.2017.7926779</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

The effect of scratching direction in AFM nanolithography

Popis výsledku v původním jazyce

In this paper, we investigated the effect of scratching direction in AFM scratching. The understanding of this effect is one of the key factors in the patterning process. In our experiment, several testing grooves were engraved in all four basic directions (forward, backward, right and left) on polycarbonate substrate using Si probe. Both the fabrication and subsequent characterization were performed using the identical atomic force microscope. Our results were compared to previous reports. It was found that scratching in the backward direction is the most suitable for the common usage.

Název v anglickém jazyce

The effect of scratching direction in AFM nanolithography

Popis výsledku anglicky

In this paper, we investigated the effect of scratching direction in AFM scratching. The understanding of this effect is one of the key factors in the patterning process. In our experiment, several testing grooves were engraved in all four basic directions (forward, backward, right and left) on polycarbonate substrate using Si probe. Both the fabrication and subsequent characterization were performed using the identical atomic force microscope. Our results were compared to previous reports. It was found that scratching in the backward direction is the most suitable for the common usage.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Projekt

<a href="/cs/project/LO1303" target="_blank" >LO1303: Podpora udržitelnosti a rozvoje Centra bezpečnostních, informačních a pokročilých technologií (CEBIA-Tech)</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

2017 SEVENTH INTERNATIONAL CONFERENCE ON INFORMATION SCIENCE AND TECHNOLOGY (ICIST2017)

ISBN

978-1-5090-5400-8

ISSN

—

e-ISSN

neuvedeno

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

331-334

Název nakladatele

IEEE

Místo vydání

New York

Místo konání akce

Da Nang

Datum konání akce

16. 4. 2017

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

000403402600054