Investigation of TixSiyOz dielectric layers deposited by PECVD for optical and electronic applications
Public support
Provider
Ministry of Education, Youth and Sports
Programme
—
Call for proposals
FP6-2002-Mobility-9
Main participants
Masarykova univerzita / Středoevropský technologický institut
Contest type
RP - Co-financing of EC programme
Contract ID
7AMB15FR036
Alternative language
Project name in Czech
Výzkum dielektrických vrstev TixSiyOz připravených plazmochemickou metodou (PECVD) pro optické a elektronické aplikace
Annotation in Czech
Cílem projektu je připravit TixSiyOz vrstvy s vlastnostmi vhodnými pro aplikace v integrovaných kondenzátorech s vysokou kapacitou a pokročilé optické vrstvy. Oba tyto typy aplikací využívají unikátních vlastností TiO2 materiálu, ale limitující faktory dané vlastnostmi TiO2 budou řešeny pomocí míchání tohoto materiálu s oxidem křemíku. Záměrem projektu je navrhnout depoziční technologii, která je použita při nízké teplotě a patří mezi postupy šetrné k životnímu prostředí. Proto byla zvolena metoda plazmochemické depozice (PECVD). S hlavním cílem projektu souvisí několik následujících dílčích cílů: Nalézt podmínky v plazmatu, které jsou vhodné pro depozici vysoce kvalitních konformních dielektrických TixSiyOz vrstev. Identifikovat podmínky pro depoziciuniformních a homogenních TixSiyOz vrstev s variabilními optickými vlastnostmi. Porozumět základním mechanismům depozice určujícím morfologii a strukturu vrstev, a tedy efektivně optimalizovat vlastnosti vrstev. Určit zda je TixSiyOz materiál tvořen homogenní jednofázovou směsí s atomárním mixováním Ti-O-Si vazeb nebo zda jde o směs nekolika separovaných fází, především TiOx a SiOx. Tento dílčí cíl také zahrnuje určení podmínek pro cílený vznik nanokrystalků a výzkum jejich vlivu na funkční vlastnosti vrstev. Vztah mezi depozičními podmínkami a vlastností a strukturou vrstev bude určen pro různé podmínky v ICP výbojích. Na základě těchto výsledků budou navrženy optimální podmínky pro depozici opticky homogenních vrstev s možností variace indexu lomu. Elektrické měření spolu s testováním konformity depozice vrstev pomůže identifikovat depoziční podmínky TixSiyOz vrstev vhodných pro navržení 3D integrovaných kondenzátorů. K pochopení nejdůležitějších faktorů ovlivňujících depozici vrstev bude využita diagnostika plazmatu.
Scientific branches
R&D category
ZV - Basic research
CEP classification - main branch
BL - Plasma physics and discharge through gases
CEP - secondary branch
JA - Electronics and optoelectronics
CEP - another secondary branch
JJ - Other materials
OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering<br>20502 - Paper and wood<br>20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)<br>21001 - Nano-materials (production and properties)<br>21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Completed project evaluation
Provider evaluation
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Project results evaluation
This project was being realized in the framework of the MOBILITY Activity that aims primarily on establishing and strenghtening ties with foreign research institutions. The control of particular outputs is not implemented by the evalution committee, but the correctness of allocated finances and the adequacy of their use are checked.
Solution timeline
Realization period - beginning
Jan 1, 2015
Realization period - end
Dec 31, 2016
Project status
U - Finished project
Latest support payment
Mar 30, 2016
Data delivery to CEP
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data delivery code
CEP17-MSM-7A-U/02:1
Data delivery date
Jun 28, 2017
Finance
Total approved costs
108 thou. CZK
Public financial support
108 thou. CZK
Other public sources
0 thou. CZK
Non public and foreign sources
0 thou. CZK