All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates

Public support

  • Provider

    Technology Agency of the Czech Republic

  • Programme

    Programme of applied research and experimental development ALFA

  • Call for proposals

    ALFA 1 (STA02011TA01)

  • Main participants

    SVCS Process Innovation s.r.o.

  • Contest type

    VS - Public tender

  • Contract ID

    20110108

Alternative language

  • Project name in Czech

    Nízkoteplotní hybridní mikrovlnné plazmové zdroje s vysokým stupněm ionizace uspořádaných v matricové konfiguraci umožňujících depozice perspektivných materiálů a jejich (nano) kompozitů na 2D a 3D objekty

  • Annotation in Czech

    Hlavním cílem předkládaného projektu je návrh, vývoj a realizace hybridního a plně modulárního mikrovlnného systému chemické depozice z plynné fáze za asistence plazmatu založeného na nízkoteplotním zdroji plazmatu, surfatronu, s vysokým stupněm ionizace, který bude vhodný pro růst nových, moderních materiálů a jejich (nano) kompozitních forem, jako jsou například oxidy (TiO2, ZnO) nebo diamant. Hlavní výzvou projektu je zajištění několika různých průmyslových aspektů v jednom systému. Jedná se například o kombinace depozice na rozsáhlé plochy či 2D/3D objekty, nízké depoziční teploty, vysoké spolehlivosti a reprodukovatelnosti plazmové depozice při zachování dlouhodobé stability celého procesu. Zdroj plazmatu v radiálním či lineárním uspořádání bude systematicky studován množstvím analytických metod v závislosti na procesních parametrech (celkový tlak, složení plynné směsi, geometrie systému zdroje plazmatu a podobně). Výsledný depoziční systém bude vhodný pro široké spektrum průmyslových aplikací.

Scientific branches

  • R&D category

    AP - Applied research

  • CEP classification - main branch

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • CEP - secondary branch

    JJ - Other materials

  • CEP - another secondary branch

    JA - Electronics and optoelectronics

  • OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering<br>20502 - Paper and wood<br>20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)<br>21001 - Nano-materials (production and properties)<br>21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Completed project evaluation

  • Provider evaluation

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Project results evaluation

    This is preliminary data, no approval by the provider.

Solution timeline

  • Realization period - beginning

    Jan 1, 2011

  • Realization period - end

    Dec 31, 2014

  • Project status

    U - Finished project

  • Latest support payment

    Feb 28, 2013

Data delivery to CEP

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

  • Data delivery code

    CEP15-TA0-TA-U/04:1

  • Data delivery date

    Jul 10, 2020

Finance

  • Total approved costs

    29,820 thou. CZK

  • Public financial support

    23,631 thou. CZK

  • Other public sources

    0 thou. CZK

  • Non public and foreign sources

    6,189 thou. CZK