All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Advanced experimental research of discharge plasma sources applied for deposition of nanostructured thin films

Public support

  • Provider

    Czech Science Foundation

  • Programme

    Standard projects

  • Call for proposals

    Standardní projekty 14 (SGA02011GA-ST)

  • Main participants

  • Contest type

    VS - Public tender

  • Contract ID

    P205-11-0386

Alternative language

  • Project name in Czech

    Pokročilý experimentální výzkum výbojových zdrojů plazmatu použitých pro přípravu nanostrukturovaných tenkých vrstev

  • Annotation in Czech

    V projektu předpokládáme provést výzkum pulsně modulovaných zdrojů plazmatu (válcový a planární magnetron, plazmová tryska, mikrovlnný surfatronový výboj), jejich charakterizaci pro nanášení tenkých (především oxidových) vrstev a spolu s počítačovými simulacemi objasnit fyzikální procesy při růstu a formování tenkých vrstev. Plazma bude v těchto systémech studováno pomocí vhodných diagnostických metod a získané výsledky budou sloužit jako vstupní parametry do modelu počítačových simulací. Hlavní cíle projektu jsou následující: Optimalizovat pulzní zdroje plazmatu pro efektivní nanášení tenkých oxidových vrstev: planární magnetron, plazmovou trysku s dutou katodou pracujícícmi za nízkého tlaku a surfatronem buzený mikrovlnný tryskový výboj pracující za vyšších tlaků. Implementovat do těchto zdrojů plazmatu následující zdokonalené diagnostické metody měřící s časovým rozlišením: elektrostatickou sondu, emisní a laserovou absorpční spektroskopii, hmotovou spektrometrii a měření energetického rozdělení iontů. Experimentálně charakterizovat plazmatické procesy probíhající v těchto zdrojích plazmatu a porozumět jejich vlivu na vlastnosti nanášených nanokrystalických tenkých vrstev včetně diagnostiky jejich krystalografické struktury a s ní spjatých vlastností. Na základě výsledků diagnostiky plazmatu a vlastností nanesených vrstev vytvořit počítačové simulace růstu vrstev a vysvětlit základní fyzikální principy zodpovědné za formování vrstev.

Scientific branches

  • R&D category

    ZV - Basic research

  • CEP classification - main branch

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • CEP - secondary branch

  • CEP - another secondary branch

  • OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Completed project evaluation

  • Provider evaluation

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Project results evaluation

    Main outcome of the project consist in the development of probe diagnostics (modified Katsumata probe) enabling mapping of ion flux onto substrate in hybrid MF-HiPIMS systems, in the deposition of thin films (Ti-Cu composite layer with a gradient structure, control of the crystallographic structure of the TiO2 films by p-d parameter) and in simulations of thin film growth (13 published papers).

Solution timeline

  • Realization period - beginning

    Jan 1, 2011

  • Realization period - end

    Dec 31, 2013

  • Project status

    U - Finished project

  • Latest support payment

    Jun 12, 2013

Data delivery to CEP

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Data delivery code

    CEP14-GA0-GA-U/01:1

  • Data delivery date

    Jul 1, 2014

Finance

  • Total approved costs

    6,124 thou. CZK

  • Public financial support

    6,124 thou. CZK

  • Other public sources

    0 thou. CZK

  • Non public and foreign sources

    0 thou. CZK