New low temperature plasmatic technologies of thin films deposition at atmospheric pressure
Public support
Provider
Academy of Sciences of the Czech Republic
Programme
Scheme of targeted research and development support
Call for proposals
Program podpory cíleného výzkumu a vývoje 2 (SAV02002-S)
Main participants
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Contest type
VS - Public tender
Contract ID
—
Alternative language
Project name in Czech
Nové nízkoteplotní plazmatické technologie depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku
Annotation in Czech
Navrhovaný projekt bude zaměřen na cílený výzkum a vývoj nových ekologických plazmatických technologií depozice tenkých vrstev při udržení nízkých teplot substrátu T < 80 st C. Vyvíjeny budou různé systémy s proudícími plazmovými kanály pracujících za atmosférického tlaku. Přestože výzkum a vývoj je v poslední době intenzivně zaměřen v tomto směru, problém těchto technologií nebyl dosud uspokojivě zvládnut. Pozornost bude zaměřena na tenké vrstvy opticky transparentních vodivých oxidů deponované na plastové substráty. Konkrétně půjde o dopované ZnO, In2O3:Sn vrstvy a podobně, které jsou vhodné a žádané pro aplikace v průmyslu. Další cílovým druhem deponovaných materiálů budou antikorozní bariérové povlaky hliníkových slitin vrstvami Al2O3 a CeO2. Měření vlastností plazmatu přímo při depozici a parametrů vrstev bude využito k optimalizaci depozičního procesu.
Scientific branches
R&D category
NV - Nonindustrial research (Applied research excluded Industrial research)
CEP classification - main branch
BL - Plasma physics and discharge through gases
CEP - secondary branch
JK - Corrosion and material surfaces
CEP - another secondary branch
JB - Sensors, detecting elements, measurement and regulation
OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering<br>20506 - Coating and films
Completed project evaluation
Provider evaluation
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Project results evaluation
Plasmatic technology of low temperature thin film deposition at atmospheric pressure was developed in this project. This technology was applied for deposition of SnO, ITO, ZnO films on polymer substrate and deposition of CeO2, Al2O3, TiO2 on metals.
Solution timeline
Realization period - beginning
Jan 1, 2002
Realization period - end
Jan 1, 2005
Project status
U - Finished project
Latest support payment
—
Data delivery to CEP
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data delivery code
CEP06-AV0-IB-U/01:1
Data delivery date
Jun 19, 2006
Finance
Total approved costs
9,162 thou. CZK
Public financial support
4,920 thou. CZK
Other public sources
4,242 thou. CZK
Non public and foreign sources
0 thou. CZK