Spatially resolved measurements in r.f. capacitive discharges in argon and nitrogen

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F04%3A00010149" target="_blank" >RIV/00216224:14310/04:00010149 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Spatially resolved measurements in r.f. capacitive discharges in argon and nitrogen

Original language description

Plasma potential, electron concentration and IED collected by grounded surface were measured in Ar and nitrogen capacitively coupled r.f. discharges. Langmuir probe and Balzers Plasma Process Monitor (PPM 421), oriented parallel to the movable electrodesallowing a perpendicular spatially resolved measurements. The asymmetry of capacitive coupling estimated from the plasma potential and d.c. self-bias increase for increasing power since the discharge extended towards the grounded PPM orifice, its tubular housing as well as chamber walls. The IEDs measured with PPM reflected the situation at the grounded electrode. It exhibited only one peak which was typically found for low voltage modulated r.f. sheaths. The mean energy of ions depends on their mean free paths. This can be explained by collisions in the sheath. The ion mean energies decreased towards the grounded electrodes in agreement with the plasma potential. The ion and electron concentrations showed similar profiles.

Czech name

Prostorově rozlišené měření v rf kapacitním výboji v argonu a dusíku

Czech description

Koncentrace elektronů, energie elektronů, plazmový potenciál a rozdělovací funkce energie iontů, v argonu a dusíku. Byla použita Langmuirova sonda a PPM Balzers. Oba diagnostické přístroje byly umístěny paraleně s rovinou elektrod. Pohyblivé elektrody umožňují získat prostorové rozložení parametrů mezi elektrodami. Rozdělovací funkce energie iontu je za vysokých výkonu stejná jako pro zemněnou elektrodu. Projevuje se zde jeden intenzivní pík typický pro stěnové vrstvy u elektrod s malou amplitudou. Střední energie Ar+ a N2+ iontů je zhruba 92% energie odpovídající plazmovému potenciálu. Objevuje se nízkoenergetický pás. Z toho usuzujeme na srážky ve stěnové vrstvě, které nejsou pozorovány pro N+ ionty. Průběh střední energie iontů je ve shodě s průběhem plazmového potenciálu. Koncentrace elektronů a iontů mají stejný profil. Asymetrie výboje ověřována z poměru ploch elektrod zízkaných z plazmového potenciálu a stejnosměrného předpětí na základě několika modelů. Pozorována výkonová změn

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Czech. J. Phys.

ISSN

0011-4626

e-ISSN

—

Volume of the periodical

54/2004

Issue of the periodical within the volume

Suppl. C

Country of publishing house

CZ - CZECH REPUBLIC

Number of pages

7

Pages from-to

592-598

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—