In situ analysis of PMPSi by spectroscopic ellipsometry and XPS
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F04%3A00010399" target="_blank" >RIV/00216224:14310/04:00010399 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/00216305:26210/04:PU47898
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
In situ analysis of PMPSi by spectroscopic ellipsometry and XPS
Original language description
In-situ monitoring of the UV-light and thermal treatment of PMPSi thin films by real-time spectroscopic ellipsometry and XPS is reported. The films were treated both under ultrahigh vacuum and oxygen atmosphere. The results of this study indicate that the Si-Si bonds in the polymer main chain were primarily broken at the UV-light treatment. However, the Si radicals recombined into the polymer-like chains causing no remarkable chemical shift. The UV-light treatment under enhanced sample temperature (~80C) in oxygen atmosphere resulted in the more intense degradation of the PMPSi film. This can be related to cutting off the volatile methyl groups from the polymer main chains.
Czech name
Analýza PMPSi metodou spektroskopické elipsometrie a XPS
Czech description
Sledovali jsme působení UV záření a zvýšené teploty na tenké vrstvy PMPSi v reálném čase pomocí spektroskopické elipsometrie a XPS. Tyto dva vlivy byly aplikovány na vrstvy v prostředí vysokého vakua a v kyslíkové atmosféře. Z výsledků této studie vyplývá, že Si-Si vazby, tvořící páteř polymeru, jsou rozbíjeny především působením UV záření. Po rozbití vazeb a následném zesíťování polymeru nedochází ke zpětnému posunu v elipsometrických spektrech. Působení UV záření a současné zahřívání vzorku na teplotuokolo 80C v kyslíkové atmosféře vede k silnější degradaci vrstvy PMPSi. To může být spojeno s uvolněním methylových skupin od páteře polymeru.
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/PG98377" target="_blank" >PG98377: Ion-beam technologies and surface/thin film analysis</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Surface and Interface Analysis
ISSN
0142-2421
e-ISSN
—
Volume of the periodical
2004
Issue of the periodical within the volume
36
Country of publishing house
US - UNITED STATES
Number of pages
4
Pages from-to
1218-1221
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—