Dynamics of UV degradation of PMPSi in vacuum and in the air using in-situ ellipsometry

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00027153" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00027153 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Dynamics of UV degradation of PMPSi in vacuum and in the air using in-situ ellipsometry

Original language description

We present a comparative study of UV degradation of poly[methyl(phenyl)silane] (PMPSi) thin films on Si substrate in HV and in the air. When exposed to UV light with energies around 3.6 eV, the Si backbone scission occurs. The degradation rate is influenced by the presence of oxygen, which is bonded to the Si atoms following the backbone scission. In our experiments, the samples were placed in an HV chamber and ellipsometric spectra were continuously recorded in the 3.3-5.0 eV range. The combined tungsten (halogen)-deuterium source ensuring a proper level of light intensity used for both exposition and measurement. During 100 hours exposures at atmospheric pressure, the PMPSi film degraded completely and its optical response did not change further. Degradation of the sample exposed in vacuum (at the pressure of 5 x 10-6 Pa) is slower and stops earlier. Ellipsometric technique allowed us to perform detailed studies of the degradation dynamics.

Czech name

Dynamika UV degradace PMPSi ve vakuu a na vzduchu s využitím in-situ elipsometrie

Czech description

Srovnávací studie UV degradace tenkých vrstev PMPSi na Si substrátech ve vysokém vakuu a na vzduchu.Při expozici UV zářením o energiích okolo 3.6 eV je pozorován rozpad Si páteře polymeru PMPSi. Degradační rychlost je závislá na přítomnosti kyslíku, který se váže do Si páteře v místech přetržení. V experimentu byly vzorky umístěny ve vakuové komoře se spektroskopickým elipsometrem, k expozici a současně měření byl použit kombinovaný světelný zdroj halogen - deutherium. Elipsometrická spektra byla zaznamenávána kontinuálně v intervalu 3.3-5.0 eV. Po 100h expozici za atmosférického tlaku PMPSi vrstvy kompletně zdegradovaly, optická odezva se dále neměnila. Degradace vzorku exponovaného ve vakuu (5 x 10-6 Pa) byla pomalejší a zastavila se dříve. Ukázalo se, že elipsometrické metody umožňují detailní studium degradační dynamiky.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2008

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

physica status solidi (c)

ISSN

1610-1642

e-ISSN

—

Volume of the periodical

5

Issue of the periodical within the volume

5

Country of publishing house

DE - GERMANY

Number of pages

4

Pages from-to

—

UT code for WoS article

000256862500063

EID of the result in the Scopus database

—