Optical measurement of mechanical stresses in diamond-like carbon films
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00013025" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00013025 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Optical measurement of mechanical stresses in diamond-like carbon films
Original language description
In this paper the mechanical stresses taking place in diamond like thin films prepared by the plasma enhanced chemical vapor deposition onto silicon single crystal substrates are studied. For determination of the stress values the Stoney's formula is used. The values of the film thicknesses are determined using the combined method of variable angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry. The values of the curvature radii of the deformed silicon substrates in consequence of the film stresses are evaluated using interferometric method based on two-beam interferometry and chromatic aberration method. The dependence of the mechanical stress inside these films on their thickness values is determined. It is found that this dependence can be approximate by the straight-line. The results achieved for the mechanical stresses obtained by both the optical methods, i.e. by the interferometric and chromatic aberration method, are compared. It is shown that within the
Czech name
Optické měření mechanického napětí v diamatu podobných vrstvách
Czech description
V tomto článkujsou studována mechanická napětí existující v diamantu podobných vrstvách připravených plasmaticky podporovanou chemickou deposicí v parách na podložky z monokrystalického křemíku. Pro určení těchto napětí je využita Stoneyova formule. Hodnoty tlouštěk vrstev jsou určeny pomocí kombinované metody víceúhlové spektroskopické elipsometrie a téměř kolmé spektroskopické reflektometrie. Hodnoty poloměrů křivosti deformovaných podložek křemíku v důsledku napětí ve vrstvách jsou určeny pomocí použitím metody dvoupaprskové interferometrie a metody chromatické aberace. Je určena závislost mechanického napětí uvnitř vrstev na jejich tloušťce. Nalezli jsme, že tato závislost může být aproximována přímkou. Výsledky týkající se mechanických napětí ve vrstvách dosažené oběma optickými metodami, tj. interferometrickou metodou a metodou chromatické aberace, jsou srovnány. Ukázali jsme, že v rámci experimentální přesnosti jsou hodnoty mechanického napětí určené oběma metodami identické. Uk
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA101%2F04%2F2131" target="_blank" >GA101/04/2131: Realization of thelaboratory digital spectrophotometer for the wide spectral region</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
8-th International Symposium on Laser Metrology
ISBN
0-8194-5757-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
12
Pages from-to
717-728
Publisher name
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Place of publication
Bellingham, Washington, USA
Event location
February 14-18, 2005, Merida, Yucatan, Mexico
Event date
Jan 1, 2005
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—