Influence of technological conditions on mechanical stresses inside diamond-like carbon films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00014248" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00014248 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/00216305:26210/05:PU54692

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Influence of technological conditions on mechanical stresses inside diamond-like carbon films

Original language description

In this paper the influences of the technological conditions, i.e. the influences of the hydrogen flow rate and deposition time, on the values of the intrinsic mechanical stresses inside the diamond-like carbon (DLC) thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition onto silicon substrates are studied. These stresses are measured by two-beam interferometry and optical profilometry based on chromatic aberration through the measurements of deformations of the silicon substrates originatingin consequence of the film stresses. It is shown that the influence of the deposition time (i.e. film thickness) on the film stress is relatively slight in contrast to the influence of the hydrogen flow rate on this quantity. It is namely shown that thefilm stresses are influenced by the hydrogen flow rate values in a pronounced way within the interval of interest, i.e. within the interval 1-7 sccm. Moreover, it is shown that the method of optical profilometry used can be competitive to

Czech name

Vliv technologických podmínek na mechanické pnutí v diamantu podobných vrstvách

Czech description

V tomto článku jsou studovány vlivy technologických podmínek, tj. vlivy průtoku vodíku a doby deposice, na hodnoty vnitřního mechanického napětí uvnitř diamantu podobných uhlíkových (DLC) tenkých vrstev připravených plasmaticky podporovanou chemickou deposicí v parách na podložky tvořené monokrystalickým křemíkem. Toto napětí je měřeno pomocí dvoupaprskové interferometrie a optické profilometrie založené na chromatické aberaci prostřednictvím měření deformace podložek křemíku vznikající v důsledku napětí ve vrstvách. Je ukázáno, že vliv času deposice (tj. tloušťky) na napětí ve vrstvách je je relativně slabý na rozdíl od od vlivu průtoku vodíku. Je totiž ukázáno, že napětí ve vrstvách je ovlivněno průtokem vodíku výrazným způsobem v rámci intervalu, který nás zajímá, tj. v rámci intervalu 1-7 sccm. Navíc je ukázáno, že použitá metoda optické profilometrie může být konkurenční metodou pro metodu dvoupaprskové interferometrie z praktického hlediska.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA101%2F04%2F2131" target="_blank" >GA101/04/2131: Realization of thelaboratory digital spectrophotometer for the wide spectral region</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Diamond and Related Materials

ISSN

0925-9635

e-ISSN

—

Volume of the periodical

14

Issue of the periodical within the volume

11-12

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

4

Pages from-to

1835-1838

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—