Simultaneous diffusion of screen printed boron paste

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU57478" target="_blank" >RIV/00216305:26220/06:PU57478 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Simultaneous diffusion of screen printed boron paste
Original language description
Boron pastes can make emitter and back surface field formation a simple screen print process. It is possible to achieve high quality p+ emitter on n-type silicon wafers. It is shown that solar cells can easily be fabricated by using n-type silicon wafersand simultaneous diffusion of Boron paste. These high quality diffusion pastes can reduce manufacturing cost.
Czech name
Současná difuze sítotiskové borové pasty
Czech description
Jednoduchým sítotiskovým procesem se může vytvořit emitor a zadní pole na solárním článku, pomocí borové pasty. Takto je možné dosáhnout vysoké kvality p+ emitoru na n-typovém křemíkovém waferu. Je zde ukázáno, že lze jednoduše vyrobit solární články zapoužití n-typového waferu a difuze borové pasty. Tato vysoce kvalitní borová pasta může snížit výrobní náklady solárních článků.

Project
<a href="/en/project/GA102%2F04%2F0590" target="_blank" >GA102/04/0590: Development of microelectronics technologies for 3D circuits and systems</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Proceedings of the 12th Conference Student EEICT 2006
ISBN
80-214-3162-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
5
Pages from-to
185-189
Publisher name
Ing. Zdeněk Novotný CSc.
Place of publication
Brno
Event location
Brno
Event date
Apr 27, 2006
Type of event by nationality
CST - Celostátní akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)