Fabrication of plasmonic nanostructures on non-conductive substrates using variable pressure electron beam lithography

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F16%3APU120328" target="_blank" >RIV/00216305:26620/16:PU120328 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Tvorba plazmonických nanostruktur na elektricky nevodivých substrátech pomocí elektronové litografie
Original language description
Výroba plasmonických nanoantén s rezonančními frekvencemi ve viditelné oblasti pomocí elektronové litografie mnohdy přináší nutnost expozice nevodivých substrátů. Tato práce je zaměřena na porovnání výsledků dosažitelných konvenčním přístupem za použití vodivých polymerů a alternativního postupu v podobě litografie za variabilního tlaku (VP-EBL). Dále je testována stabilita VP-EBL procesu pro dlouhodobé expozice.
Czech name
Tvorba plazmonických nanostruktur na elektricky nevodivých substrátech pomocí elektronové litografie
Czech description
Výroba plasmonických nanoantén s rezonančními frekvencemi ve viditelné oblasti pomocí elektronové litografie mnohdy přináší nutnost expozice nevodivých substrátů. Tato práce je zaměřena na porovnání výsledků dosažitelných konvenčním přístupem za použití vodivých polymerů a alternativního postupu v podobě litografie za variabilního tlaku (VP-EBL). Dále je testována stabilita VP-EBL procesu pro dlouhodobé expozice.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2016
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)