All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Silicon Carbide Crystal

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F21%3AN0000005" target="_blank" >RIV/26821532:_____/21:N0000005 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Krystal karbidu křemíku

  • Original language description

    Objemový krystal karbidu křemíku (SiC) vyrobený metodou Physical Vapour Transport (PVT). Délka krystalu min. 1 cm, průměr krystalu min. 150 mm (tj. pro výrobu desek průměru 150 mm). Splnění specifikace pro polovodičové aplikace (bez objemových defektů) - splnění klíčového požadavku ověřeno komplexním měřením na deskách z krystalu (analýza povrchu, selektivní leptání pro zviditelňování defektů, analýzy vnitřního pnutí, mikroskopické analýzy) a potvrzena aplikačními testy (epitaxní růst).

  • Czech name

    Krystal karbidu křemíku

  • Czech description

    Objemový krystal karbidu křemíku (SiC) vyrobený metodou Physical Vapour Transport (PVT). Délka krystalu min. 1 cm, průměr krystalu min. 150 mm (tj. pro výrobu desek průměru 150 mm). Splnění specifikace pro polovodičové aplikace (bez objemových defektů) - splnění klíčového požadavku ověřeno komplexním měřením na deskách z krystalu (analýza povrchu, selektivní leptání pro zviditelňování defektů, analýzy vnitřního pnutí, mikroskopické analýzy) a potvrzena aplikačními testy (epitaxní růst).

Classification

  • Type

    G<sub>funk</sub> - Functional sample

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    20501 - Materials engineering

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/TH03020005" target="_blank" >TH03020005: RandD of Bulk Semiconductor Material with Wide Bandgap</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2021

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Data specific for result type

  • Internal product ID

    TH03020005-V4

  • Numerical identification

  • Technical parameters

    Objemový krystal karbidu křemíku (SiC) vyrobený metodou Physical Vapour Transport (PVT). Délka krystalu min. 1 cm, průměr krystalu min. 150 mm (tj. pro výrobu desek průměru 150 mm). Splnění specifikace pro polovodičové aplikace (bez objemových defektů) - splnění klíčového požadavku ověřeno komplexním měřením na deskách z krystalu (analýza povrchu, selektivní leptání pro zviditelňování defektů, analýzy vnitřního pnutí, mikroskopické analýzy) a potvrzena aplikačními testy (epitaxní růst).

  • Economical parameters

    Délka krystalu >1 cm, cena <1000$/mm (pro průměr krystalu >150 mm)

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    26821532

  • Owner name

    ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    V - Výsledek je využíván vlastníkem

  • Licence fee requirement

  • Web page