All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Technology of ZnO films preparation by MW PECVD with defined conductivity and grain size

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F27711170%3A_____%2F12%3A%230000019" target="_blank" >RIV/27711170:_____/12:#0000019 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna

  • Original language description

    Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky.

  • Czech name

    Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna

  • Czech description

    Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky.

Classification

  • Type

    N<sub>metC</sub> - Methodology certified by the authorised body

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/TA01011740" target="_blank" >TA01011740: Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2012

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Data specific for result type

  • Internal product ID

    MWZnO-2012-01

  • Regulation ID

    A-MWZnO-2012-01

  • Technical parameters

    Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky

  • Economical parameters

    Metodika bude sloužit jako podpůrný produkt prodeje MWPECVD zařízení. V rámci implementace certifikované metodiky do zmíněného MWPECVD zařízení očekáváme navýšení ceny tohoto zařízení cca o 4%.

  • Certification body designation

    SVCS Process Innovation s.r.o.

  • Date of certification

  • Method of use

    A - Výsledek využívá pouze poskytovatel