Diagnostics of Surfatron-generated Plasma by Probe Measurements and Emission Spectroscopy.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210194" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210194 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Diagnostics of Surfatron-generated Plasma by Probe Measurements and Emission Spectroscopy.

Original language description

Applications of plasma sources in technology, medicine and biomedicine are already known for a longer time. Our work is focused on diagnostics and applications of a microwave plasma source in these areas. The diagnosed microwave?driven plasma source conssts of a surfatron powered by a microwave magnetron generator, working at 2.45 GHz in the output power range (0 ÷ 300) W, which creates plasma from the working gas flowing through the quartz nozzle. We present results of diagnostics of generated plasma anozzle exit at different experimental conditions: variable absorbed power, total chamber pressure etc. The diagnostics of plasma column was performed by means of double Langmuir probe measurement and optical emission spectroscopy. PACS: 52.90+z, 52.70.Kz

Czech name

Diagnostika surfatronem generované plazmy měřením sondou a emisní spektroskopií.

Czech description

Popisuje se aplikace plazmové diagnostiky pro výbvoj procesu. Ukazjuuje se, že hustota iontů a elektronů jsou vhodným parametrem pro charakterizaci plazmy. Tato hodnota je citlivá ke změnám většiny procesních parametrů jako jsou konfigurace reaktoru, výon dodávaný výboji a náhodné jevy jako je výskyt jisker. Použití tohoto diagnostického nástroje je demostrováno na vzniku nabitých částic v hromadném plazmovém polymerizačním procesu a na charakterizaci příspěvků určitých plazmových zdrojů k tvorbě nabtých částic v duálním mikrovlno/radiofrekvenčním depozičním systému použitém pro vývoj povlaků odolných proti poškrábání pro plastové díly, užitečné pro řízení procesu a jeho vývoj. Monitoring určitých aktivních částic se používá pro řízení jednoduchýchrocesů.[např.. 4]. Pro složitější procesy často není znám základní precursor. V takových případech může monitorování komplexního parametru, jako je hustota elektronů, poskytnout platnou informaci.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

21st Symposium on Plasma Physics and Technology

ISBN

80-01-03015-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

1

Pages from-to

104

Publisher name

Institute of Physics ASCR

Place of publication

Praha, Česká republika

Event location

Praha, Česká republika

Event date

Jan 1, 2004

Type of event by nationality

EUR - Evropská akce

UT code for WoS article

—