Plasma diagnostic for process characterization.
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210213" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210213 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Plasma diagnostic for process characterization.
Original language description
Applications of plasma sources in technology, medicine and biomedicine are already known for a longer time. Our work is focused on diagnostics and applications of a microwave plasma source in these areas. The diagnosed microwave?driven plasma source conssts of a surfatron powered by a microwave magnetron generator, working at 2.45 GHz in the output power range (0 ÷ 300) W, which creates plasma from the working gas flowing through the quartz nozzle. We present results of diagnostics of generated plasma anozzle exit at different experimental conditions: variable absorbed power, total chamber pressure etc. The diagnostics of plasma column was performed by means of double Langmuir probe measurement and optical emission spectroscopy. PACS: 52.90+z, 52.70.Kz
Czech name
Plazmová diagnostika pro charakterizaci procesů.
Czech description
Popisuje se aplikace plazmové diagnostiky pro výbvoj procesu. Ukazjuuje se, že hustota iontů a elektronů jsou vhodným parametrem pro charakterizaci plazmy. Tato hodnota je citlivá ke změnám většiny procesních parametrů jako jsou konfigurace reaktoru, výon dodávaný výboji a náhodné jevy jako je výskyt jisker. Použití tohoto diagnostického nástroje je demostrováno na vzniku nabitých částic v hromadném plazmovém polymerizačním procesu a na charakterizaci příspěvků určitých plazmových zdrojů k tvorbě nabtých částic v duálním mikrovlno/radiofrekvenčním depozičním systému použitém pro vývoj povlaků odolných proti poškrábání pro plastové díly, užitečné pro řízení procesu a jeho vývoj. Monitoring určitých aktivních částic se používá pro řízení jednoduchýchrocesů.[např.. 4]. Pro složitější procesy často není znám základní precursor. V takových případech může monitorování komplexního parametru, jako je hustota elektronů, poskytnout platnou informaci.
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
III. Joint meeting COST 527, Sant Feliu de Guoix, Spain, 11-12.6.2004
ISBN
—
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
1
Pages from-to
—
Publisher name
Neuveden
Place of publication
Spain
Event location
Spain
Event date
Jan 1, 2004
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—