All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Plasma diagnostic for process characterization.

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210213" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210213 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Plasma diagnostic for process characterization.

  • Original language description

    Applications of plasma sources in technology, medicine and biomedicine are already known for a longer time. Our work is focused on diagnostics and applications of a microwave plasma source in these areas. The diagnosed microwave?driven plasma source conssts of a surfatron powered by a microwave magnetron generator, working at 2.45 GHz in the output power range (0 ÷ 300) W, which creates plasma from the working gas flowing through the quartz nozzle. We present results of diagnostics of generated plasma anozzle exit at different experimental conditions: variable absorbed power, total chamber pressure etc. The diagnostics of plasma column was performed by means of double Langmuir probe measurement and optical emission spectroscopy. PACS: 52.90+z, 52.70.Kz

  • Czech name

    Plazmová diagnostika pro charakterizaci procesů.

  • Czech description

    Popisuje se aplikace plazmové diagnostiky pro výbvoj procesu. Ukazjuuje se, že hustota iontů a elektronů jsou vhodným parametrem pro charakterizaci plazmy. Tato hodnota je citlivá ke změnám většiny procesních parametrů jako jsou konfigurace reaktoru, výon dodávaný výboji a náhodné jevy jako je výskyt jisker. Použití tohoto diagnostického nástroje je demostrováno na vzniku nabitých částic v hromadném plazmovém polymerizačním procesu a na charakterizaci příspěvků určitých plazmových zdrojů k tvorbě nabtých částic v duálním mikrovlno/radiofrekvenčním depozičním systému použitém pro vývoj povlaků odolných proti poškrábání pro plastové díly, užitečné pro řízení procesu a jeho vývoj. Monitoring určitých aktivních částic se používá pro řízení jednoduchýchrocesů.[např.. 4]. Pro složitější procesy často není znám základní precursor. V takových případech může monitorování komplexního parametru, jako je hustota elektronů, poskytnout platnou informaci.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2004

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    III. Joint meeting COST 527, Sant Feliu de Guoix, Spain, 11-12.6.2004

  • ISBN

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    1

  • Pages from-to

  • Publisher name

    Neuveden

  • Place of publication

    Spain

  • Event location

    Spain

  • Event date

    Jan 1, 2004

  • Type of event by nationality

    WRD - Celosvětová akce

  • UT code for WoS article