Comparative diagnostics of Ar and He surfatron generated plasma by meaes of optical emission spectroscopy and probe measurement.

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F04%3A24210196" target="_blank" >RIV/46747885:24210/04:24210196 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Comparative diagnostics of Ar and He surfatron generated plasma by meaes of optical emission spectroscopy and probe measurement.
Original language description
The article is focused on comparative disagnostics of microwave plasmas, generated by surfatron, where Ar and He are used as a reactive gas.The diagnosedmicrowave-driven oplasma source consists of a surfatron powered by a microwave magnetron generator ,working at frequency 2,45 GHz in the output power range 0-300 W, which creates plasma from the flowing working gas in a quartz nozzle.
Czech name
Srovnávací diagnostika Ar a He surfatronem generované plazmy pomocí otické emisní spektroskopie a mľťení sondou.
Czech description
Článek je zaměřen na srovnávací diagnostuíku mikrovlnné plazmy, generované surfatronem, kde Ar a He jsou použity jako reaktiní plyn. Diagnostikovaný mikrovlnný plasmatický zdroj se skládá ze surfatronu napájeného mikrovlnným magnetronovým generatorem, prcujícím při frekvenci 2,45 GHz na výstupu 0-300 W, což tvoří plazmu z protékajícího pracovního plynu v křemenné trysce.

Project
<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)