Characterization of grid -assisted magnetron sputtering using energy-resolved mass spectroscopy

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F05%3A00000003" target="_blank" >RIV/49777513:23520/05:00000003 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Characterization of grid -assisted magnetron sputtering using energy-resolved mass spectroscopy
Original language description
Energy-resolved mass spectroscopy was used to study differences in ion bombardment characteristics during conventional reactive magnetron sputtering and a grid-assisted magnetron sputtering proposed for deposition of films with a dense microstructure and
Czech name
Charakterizace mřížkově asistovaného magnetronového naprašování použitím hmotnostní spektroskopie s energiovým rozlišením
Czech description
Pomocí hmotnostní spektroskopie s energiovým rozlišením byly zkoumány rozdíly v rozdělovacích funkcích iontů bombardující substrát během konvenčního a mřížkově asistovaného reaktivního magnetronového naprašování, které bylo navrženo pro depozici filmů s

Project
<a href="/en/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: New resources of plasma for creation of thiny layers.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
15th symposium on applications of plasma processes
ISBN
80-223-2018-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
199-200
Publisher name
Comenius University
Place of publication
Bratislava
Event location
Podbanské
Event date
Jan 15, 2005
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)