Difference in high-temperature oxidation resistance of amorphous Zr-Si-N and W-Si-N films with a high Si content

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000320" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000320 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/49777513:23520/06:00000072

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Difference in high-temperature oxidation resistance of amorphous Zr-Si-N and W-Si-N films with a high Si content

Original language description

The high-temperature oxidation resistance of amorphous Zr-Si-N and W-Si-N films with a high Si content deposited by reactive dc magnetron sputtering at different partial pressures of nitrogen was systematically investigated by means of a symmetrical high-resolution thermogravimetry in a flowing air up to an annealing temperature of 1300°C. Additional analyses including X-ray diffraction, light optical microscopy, scanning electron microscopy, atomic force microscopy, and microhardness measurement were carried out as well. The obtained results showed an excellent high-temperature oxidation resistance of the Zr-Si-N films up to 1300°C, a considerably lower oxidation resistance of the W-Si-N films. The W-Si-N films are completely oxidized at 800°C with asubsequent volatilization of unstable WOx oxides.

Czech name

Srovnání vysokoteplotní oxidační odolnosti amorfních vrstev Zr-Si-N a W-Si-N s vysokým obsahem Si

Czech description

Vysokoteplotní oxidační odolnost amorfních vrstev Zr-Si-N a W-Si-N s vysokým obsahem Si ("20 at.%) deponovaných reaktivním magnetronovým naprašováním za různého parciálního tlaku dusíku byla systematicky zkoumána pomocí termogravimetrie s vysokým rozlišením v proudícím vzduchu až do teploty 1300°C (limit křemíkového substrátu). Připravené vrstvy byly dále charakterizovány pomocí rentgenové difrakce, optické a skenovací elektronové mikroskopie, mikroskopie atomových sil a měřením mikrotvrdosti. Získané výsledky ukázaly, že vrstvy Zr-Si-N vykazují excelentní oxidační odolnost až do teploty 1300°C na rozdíl od vrstev W-Si-N, které jsou kompletně zoxidované při teplotě 800°C, kdy následně doch

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GP106%2F03%2FD009" target="_blank" >GP106/03/D009: Reactive deposition and characterization of thin films based on novel compounds</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Applied Surface Science

ISSN

0169-4332

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS

Number of pages

7

Pages from-to

8319

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—