Magnetron sputtering of TiOxNy films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000459" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000459 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Magnetron sputtering of TiOxNy films

Original language description

This article reports on the characterization and preparation of N-doped titanium dioxide fims by reactive magnetron sputtering from Ti targets in a mixture of Ar/O2/N2 atmosphere on unheated glass substrates. A dual magnetron system supplied by a dc bipolar pulsed power source was used to sputter the TiOxNy films.

Czech name

Magnetronové naprašování vrstev TiOxOy

Czech description

Článek se věnuje přípravě a charakterizaci dusíkem dopovaných vrstev TiO2 připravených pomocí reaktivního magnetronového naprašování z titanových terčů pomocí duálního magnetronu pracujícího v bipolárním asymetrickém režimu v Ar+O2+N2 atmosféře. Byly připraveny vrstvy obsahující 5 až 40 at. % dusíku a byla určena jejich XRD struktura, hydrofilicita charkterizována poklesem kontaktního úhlu při ozařování UV zářením a šířka zakázaného pásu Eg z Taucových diagramů.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Vacuum

ISSN

0042-207

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

6

Pages from-to

285

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—