Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000028" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000028 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering

Original language description

This article reports on photoactivity of sputtered TiO2 films induced by UV irradiation. TiO2 films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operated in bipolar mode and equipped with Ti targets. The photoactivity of TiO2 films, characterized by the water droplet contact angle on the film surface after UV irradiation, was evaluated and discussed in detail. The structure of TiO2 film was measured using X-ray diffraction and surface morphology using AFM. A sharp decrease in WDCA to 10° has been observed for optimal sputtering conditions. Possibility of low-temperature sputtering of photoactive TiO2 films on heat sensitive substrates has been introduced.

Czech name

Fotoaktivované vlastnosti vrstev TiO2 připravených magnetronovou depozicí

Czech description

Článek se podrobně věnuje fotoaktivitě vrstev TiO2, která je sledována během jejich UV ozařování. Vrstvy TiO2 byly připraveny dc pulzní reaktivní magnetronovou depozicí v systému s duálním magnetronem, který pracoval v bipolárním módu a byl vybaven Ti terči s průměrem 50mm. Fotoaktivita byla charakterizována poklesem kontaktního úhlu kapky vody na povrchu vrstev během UV ozařování. U vrstev připravených v ideálních podmínkách byl pozorován rychlý pokles kontaktního úhlu pod hranici 10°. Byly naznačeny možnosti přípravy fotoaktivních vrstev TiO2 při velmi nízkých teplotách pod 90°C.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

DE - GERMANY

Number of pages

1

Pages from-to

—

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—